Studi Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) dengan menggunakan Target Tak Planar
Abstract
Telah dilakukan studi proses PIII dengan menggunakan model sheath dinamis tanpa tumbukan plasma multispesies bermuatan tunggal dan ganda dengan bentuk target silinder dan bola. Bentuk Pulsa tegangan yang digunakan adalah tegangan realistis. Dalam model ini ditentukan ekspansi sheath dinamis dan rapat arus ion
implan total dengan menggunakan massa efektif yang merupakan fungsi dari komposisi, keadaan muatan dan massa ion dari masing-masing spesies yang berbeda.
implan total dengan menggunakan massa efektif yang merupakan fungsi dari komposisi, keadaan muatan dan massa ion dari masing-masing spesies yang berbeda.
Keywords
Sheath dinamis, plasma multispesies, muatan ganda; tegangan realistis; target tak planar
Full Text:
PDFReferences
J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 62, 777 (1987).
M. A. Lieberman, J. Appl. Phys. 66, 2926 (1989).
J. T. Scheuer, M. Shamim and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 67, 1241 (1990).
M. Shamim, J. T. Scheuer and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 69, 2904 (1991).
S. Qin, Z. Jin and C. Chan, J. Appl. Phys. 78, 55 (1995).
Yoyok Cahyono, Laporan Penelitian, Dana LitMud 1998/1999
S. Qin and C. Chan, J. Appl. Phys. 79, 3432 (1996).
R.A. Stewart and M.A. Lieberman, J. Appl. Phys. 70, 3481
(1991).
GA. Emmert and MA. Henry, J. Appl. Phys. 71, 113 (1992).
Yoyok Cahyono, Laporan Penelitian, Dana SPP/DPP
/1998.
Joaquim Jos Barroso, Jse Osvaldo Rossi, and Mrio Ueda, IEEE Transactions On Plasma Science, Vol. 31, No. 1, Pebruari 2003
DOI: http://dx.doi.org/10.12962%2Fj24604682.v6i2.926
Refbacks
- There are currently no refbacks.